Для цитирования:
Чуриков А. В., Иванищев А. В., Иванищева И. А., Гамаюнова И. М., Запсис К. В., Сычева В. О. Процессы внедрения лития в тонкопленочные литий-оловянные и литий-углеродные электроды. Исследование методом импедансной спектроскопии // Электрохимическая энергетика. 2007. Т. 7, вып. 4. С. 169-?. , EDN: IJPYNZ
Процессы внедрения лития в тонкопленочные литий-оловянные и литий-углеродные электроды. Исследование методом импедансной спектроскопии
Методом спектроскопии электродного импеданса изучено обратимое внедрение лития из неводного электролита в тонкие пленки олова (0.1–1 мкм) и углерода (1–3 мкм). Измерения выполнены в диапазоне частот 105–10 - 2 Гц при варьировании концентрации лития в матрице. В статье обсуждаются варианты электрических эквивалентных схем, пригодных для моделирования экспериментальных импедансных спектров, концентрационная зависимость коэффициента диффузии лития. Зафиксировано формирование поверхностного твердоэлектролитного слоя (solid electrolyte interphase SEI) при внедрении Li в С и Sn. Порядок коэффициента диффузии лития составляет 10 - 12–10 - 13 см2/с и 10 - 9–10-14 см2/с для LixC6 и Li-Sn-электродов соответственно.
1. Nagaura T., Tozawa T. // Prog. Batt. Solar Cells. 1990. V. 9. P. 209.
2. Idota Y., Kubota T., Matsufuji A., Maekawa Y., Miyasaka T. // Science. 1997. V. 276. P. 1395.
3. Poizot P., Lauruelle S., Grugeon S., Dupont L., Tarascon J.-M. // Nature. 2000. V. 407. P. 496.
4. Dimov N., Fukuda K., Umeno T., Kugino S., Yoshio M. // J. Power Sources. 2003. V. 114. P. 88.
5. Zhang X.-W., Wang C., Appleby A. J. // J. Power Sources. 2003. V. 114. P. 121.
6. Chu Y.-Q., Fu Z.-W., Qin Q.-Z. // Electrochim. Acta. 2004. V. 49. P. 4915.
7. Choi W. C., Byun D., Lee J. K., Cho B. // Electrochim. Acta. 2004. V. 50. P. 523.
8. Li H., Huang X., Chen L. // J. Power Sources. 1999. V. 81–82. P. 340.
9. Леви М. Д., Гофер Й., Аурбах Д. // Электрохимия. 2004. Т. 40. С. 310.
10. Электроаналитические методы. Теория и практика / Под ред. Ф. Шольца. М.: БИНОМ. Лаборатория знаний, 2006.
11. Волгин М. А., Чуриков А. В., Коноплянцева Н. А., Гридина Н. А., Львов А. Л. // Электрохимия. 1998. Т. 34. С. 761.
12. Levi M. D., Aurbach D. // J. Phys. Chem. B. 1997. V. 101. P. 4630.
13. Umeda M., Dokko K., Fujita Y., Mohamedi M., Uchida I., Selman J. R. // Electrochim. Acta. 2001. V. 47. P. 885.
14. Wang C., Appleby A. J., Little F. E. // Electrochim. Acta. 2001. V. 46. P. 1793.
15. Roh Y. B., Jeong K. M., Cho H. G., Kang H. Y., Lee Y. S., Ryu S. K., Lee B. S. // J. Power Sources. 1997. V. 68. P. 271.
16. Поваров Ю. М., Бекетаева Л. А., Воробьева И. В. // Электрохимия. 1983. T. 19. C. 586.
17. Поваров Ю. М., Бекетаева Л. А., Пурешева Б. К. // Электрохимия. 1982. T. 18. C. 1340.
18. Поваров Ю. М., Воробьева И. В. // Электрохимия. 1982. T. 18. C. 1693.
19. Чуриков А. В. Электрохимические и фотохимические процессы в поверхностных слоях на литиевом электроде: Дис. ... д-ра. хим. наук. Саратов, 2001. 254 с.
20. Churikov A. V., Gamayunova I. M., Shirokov A. V. // J. Solid State Electrochem. 2000. V. 4. P. 216.
21. Churikov A. V., Nimon E. S., Lvov A. L. // Electrochim. Acta. 1997. V. 42. P. 179.
22. Чуриков А. В., Львов А. Л. // Электрохимия. 1998. Т. 34, № 7. С. 662.
23. Maier J. // J. Electrochem. Soc. 1987. V. 134. P. 1524.
24. Kliewer K. L., Koehler J. S. // Phys. Review. 1965. V. 140. P. A1226.
25. Jamnik J., Gaberseek M., Meden A., Pejovnik S. // J. Electrochem. Soc. 1991. V. 138. P. 1582.
26. Придатко К. И. // Электрохимия. 2006. Т. 42. С. 72.
27. Бискерт Х., Гарсиа-Бельмонте Г. // Электрохимия. 2004. Т. 40. С. 396.